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Janis公司提供的脉管4 K脉冲管闭循环系统，样品可放置于真空或交换气体中。
Janis公司提供的脉管4 K脉冲管闭循环系统，样品可放置于真空或交换气体中。
1、样品置于真空中
这些脉管4K闭循环系统是基于SHI-4系列低温冷却器系统
PT-SHI-4脉管制冷机 ，可选配光学工作台安装架 这是一个定制的真空样品低温恒温器，建立在1.0 W住友RP-082B2脉管制冷机的基础上。样品区包含一个直径为8英寸的OFHC铜冷板，在10毫米的网格上有275个M4螺旋孔。辐射屏蔽直径为9.5，带有四个石英窗口。外部窗口块和辐射屏在样品区是可拆卸的，以便于接触冷板。辐射屏和冷板都配有独立的加热器和温度传感器。安装架设计用于与公制光学工作台连接。 形状记忆合金馈通连接到半刚性电缆，在辐射屏和冷板上散热，将微波信号传输到样品区。多引脚馈通允许多达78根单独的导线连接到样品区，不包括加热器和温度传感器的连接。 该系统在冷板上的极限基础温度为2 K，在辐射屏上的极限基础温度为＜6 K。从室温到＜4 K的冷却时间为95分钟(60HZ)。
| PTSHI-4T型 1 W脉管冷却4 K制冷机。这是一个非光学系统，在样品区有一个可拆卸的真空罩和辐射屏蔽，便于接近样品。
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PT-SHI-4-5 4 K型脉管制冷机
| PTSHI-4-5型 该型号带有o形密封圈的可轻松拆卸的窗口挡块位于窗口正上方，可以快速方便地更换样品。
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特殊型号PTSHI-4-5 该系统采用低振动的Sumitomo 0.5W脉管机。水平延伸的冷指可以使样品置于电磁铁磁场中心。水平延伸分出两个支路，支路末端装有O圈密封的窗口，与冷指呈45度角。该设计适合进行磁光测试。该水平延伸尾部采用 taper 密封（无需螺栓或卡箍），易于拆除，方便快速更换样品。Janis可根据不同的低温应用，设计水平尾部，如用于中子散射实验的铝制圆顶。该系统最低温度在3K左右，高温可选500K。
| PTSHI-4-5型，带旋转支架 该型号具有一个可选的旋转支架，允许用户倒置整个低温恒温器。这便于更换样品。低温恒温器本身相当重，它没有任何平坦的表面，这样的支架使它可以倒置放置。没有这个旋转支架，进入样品区将非常困难和不方便。这种特殊的支架被设计成将低温恒温器保持在光学工作台表面上方50毫米处，但也可以被设计成将低温恒温器保持在客户指定的任何高度。
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2、样品置于交换气体中
基于SHI-950系列低温冷却器
PT-950-7型脉管冷却4 K制冷机
| PTSHI-950-5型 如图所示，Janis公司设计了一种低温恒温器，用于easyLab's Diacell® CryoDAC-LT System高压电池。(这样，他们的任何低温细胞都将适用于低温恒温器。)所示照片是一个低温恒温器，设计用于easyLab的OmniDAC气膜驱动金刚石砧座。
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