Janis—4K闭循环恒温器-样品在真空中

      Janis SHI-4系列4K恒温器种类齐全，可配置各种光学附件和电学接头，满足不同实验对样品冷却的要求。真空罩底部有螺纹孔，匹配安装法兰，可方便地将恒温器固定在任意方向。标准配置的制冷机系统高温可到325K，可选配高温到500K或800K。

      标准配置

      光学型真空罩和防热辐射屏

      4 个O-ring密封石英窗

      镀金无氧铜OFHC样品托

      抽真空阀和安全阀

      10针电学真空接头

      三个备用电学引入端口

      硅二极管温度计和加热器

      O-ring密封的真空外罩，方便装卸

      可选配置

      BNC、SMA或多针电学接头

      增加第五个窗口

      旋转真空罩

      旋转台和定位台

      基质隔离结构

      防热辐射窗

      红外或其他窗材

      紧凑型或其他定制型真空罩

      非光学型结构

      选配500K或800K高温

      标准型号("X"表示制冷机的制冷功率)：

      SHI-4-X (光学)

      SHI-4T-X (非光学)

      SHI-4S-X (超级紧凑)

      SHI-4XG-X (低振动)

      SHI-4H-X (高温)

      特殊设计包括：

      基于脉冲管的系统

      专用于中子散射和衍射应用

      1.特殊的 SHI-4-1 在第二级带有非常大的冷板和冷却辐射屏蔽窗口

      该系统还有六根半刚性电缆，从仪表法兰上的密封 2.92 毫米馈通件连接到冷板。

      2.SHI-4H-1

      该型号 SHI-4H-1 是建立在 RDK-101D 冷头上的高温 (500 K) 系统。展示带有黑色阳极氧化饰面的可选安装支架。

      3.带可旋转真空罩的 SHI-4R 4 K 低温冷却器

      显示了 4.2 K 系统下的 1 W。您可以在我们的矩阵隔离页面上看到另一个型号 SHI-4R-1。

      4.具有 2 轴光学对准的 4 K 闭式循环制冷机

      Janis Research Company 自豪地宣布我们的真空低温恒温器系统中的 4 K 闭式循环样品的旋转和定位平台。围绕低温恒温器通道的旋转具有 ~0.5° 分辨率和围绕低温恒温器轴的 ±360° 范围，旋转仅受氦柔性线和电缆的限制。离开低温恒温器通路的旋转具有 <0.2° 的分辨率和 0° 到 90° 的全范围运动。该系统带有四个辐射屏蔽窗口，样品基础温度达到 ~4 K。当实验样品需要精细光学对准时，该系统是理想的选择。

      5.SHI-4T-15 二级大冷板

      一种特殊型号的 SHI-4T-15 非光学无冷冻剂系统，第二级有一个大冷板。

      6.特殊 SHI-4-15-UHV

      特殊的 1.5 W 系统，带有用于仪表裙的 8 英寸 T 恤。客户将在 UHV 室上安装此系统（尽管系统本身并不真正兼容 UHV）。

      7.特殊 SHI-4-15-UHV

      这张照片显示了一个裸模型 RDK-415D2B 冷头，带有一个不可旋转的 8 英寸 CF 法兰和一个位于第二级的加热器块，带有一个温度传感器和两个筒式加热器。该系统设计为直接安装在用户提供的 UHV 室上。这不是“真正的 UHV”系统，因为烘烤温度限制在 60 °C；它专为高真空条件而设计。

      8.特殊 SHI-4XG-15-UHV

      这种特殊的 SHI-4XG-15-UHV 是真正的超高真空 (UHV) 系统，可通过交换气体隔振进行烘烤至 500 K。该特定客户计划在扫描探针显微镜测量中使用该系统。使用这个特殊系统的辐射屏蔽窗口配置，它的基础温度为 3 K。